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晶瑞电材：盈利能力均处于行业领先水平
芯片制造现在是许多国家难以逾越的鸿沟，其中不光是缺少光刻机等核心设备，光刻胶也是重要的一环。因此，国内不少公司都在倾力推动光刻胶技
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南大光电高端ArF光刻胶获得突破 已具备55nm工艺要求
南大光电于5月31日晚间发布公告，控股子公司宁波南大光电自主研发的ArF光刻胶继2020年12月在一家存储芯片制造企业的50nm闪存平台上通过认证
芯片制造现在是许多国家难以逾越的鸿沟，其中不光是缺少光刻机等核心设备，光刻胶也是重要的一环。因此，国内不少公司都在倾力推动光刻胶技
南大光电于5月31日晚间发布公告，控股子公司宁波南大光电自主研发的ArF光刻胶继2020年12月在一家存储芯片制造企业的50nm闪存平台上通过认证