南大光电高端ArF光刻胶获得突破 已具备55nm工艺要求

南大光电于5月31日晚间发布公告,控股子公司宁波南大光电自主研发的ArF光刻胶继2020年12月在一家存储芯片制造企业的50nm闪存平台上通过认证